掩膜版的功能类似于传统照相机的底片。制造商通常根据客户所需要的图形，用光刻机在原材料上光刻出 相应的图形，将不需要的金属层和胶层洗去，即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微细光掩膜图形的感光空白板。通过光刻制版工艺，将微米级和纳米级的精细图案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要体现为利用已设计好的图案，通过透光与非透光方式进行图像（电路图形）复制，从而实现批量生产。

掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版， 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩膜版是芯片制造过 程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息。掩模版用于芯片 的批量生产，是下游生产流程衔接的关键部分，是芯片精度和质量的决定因素之一。

我司专业定做掩膜版 掩模板 掩膜板 掩模版 mask 金属掩模板 不锈钢掩膜版 ，主要适合于高校、科研所、高科技公司的实验室使用，也适合于工厂批量生产，掩模板可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等真空镀膜设备中，用来制备OTFT、OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池，光电探测器，场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。由于都是定制的产品，具体价格需要发图纸确认后，才能正式报价。我公司产品均按客户图纸单独定制，退回无法再销售，如有品质问题，需按我司标准裁决，如超出我司标准，我们一定会以诚信为本，承担责任（免费重做），但不承担额外的损失，请客户检验好再使用，谢谢！